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设备用途:MBE是生长高纯薄膜晶体的一种顶尖的薄膜生长手段,相比其他生长方法具有较高的优越性,可以在原子层量级精确控制薄膜厚度和掺杂度,可以实现通过人为生长进行能带工程的剪裁,可以生长量子点、量子阱、二维超晶格等。可生长外延结构光学器件(激光器、探测器、可饱和吸收镜、超辐射发光二极管等)电学器件(HEMT,pHEMT,HBT等)
主要规格及技术指标生长室最高工作温度800℃;可生长GaAs,AlAs,InAs,InP等III-V族材料,可进行Be,Si、C等掺杂;生长室真空度优于5E-11Torr,兼容2inch、3inch、4inch、6inch