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电子束曝光是利用加速的聚焦电子束在抗蚀剂上曝光，显影后便可在抗蚀剂上得到相对应的微纳结构；用于各种高精度图形结构的制备。
主要技术指标：加速电压：50kV电子束电流：10pA~100nA可加工尺寸：2inch、3inch、4inch、5inch和≥1cm不规则片分辨率：10nm套刻精度：50nm
